Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

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विवरण

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling optimization and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
  • ब्रांड: Unbranded
  • श्रेणी: विज्ञान, चिकित्सा और प्रकृति
  • लेखक: Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
  • प्रकाशन तिथि: 2025-05-07
  • भाषा: English
  • प्रकाशक / लेबल: Taylor & Francis Ltd
  • पृष्ठों की संख्या: 354
  • फॉर्मैट: Paperback
  • Fruugo ID: 484517065-1005482003
  • ISBN: 9781032386737

वितरण

6 दिनों के भीतर भेजा जाएगा

  • STANDARD: ₹1,906.99 - के बीच वितरण सोम 27 जुलाई 2026–शुक्र 14 अगस्त 2026

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